中星顯示材料成立于2017年6月，由中國(guó)與新加坡自然人合作投資的中外合資企業(yè)，注冊(cè)資本1億元，主要從事液晶顯示材料、OLED電致發(fā)光材料，產(chǎn)品最終應(yīng)用于TFT-LCD、PDLC、OLED等新型顯示和創(chuàng)新原料生產(chǎn)領(lǐng)域。在芯片制造中工件與水會(huì)有直接接觸，芯片在加工過程中的微量玷污需要洗凈，所以超純水的品質(zhì)需要有保障，不然一旦清洗用水中含有雜質(zhì)，就會(huì)產(chǎn)生水垢，影響芯片的成品率，所以需要高純度的超純水方可清洗干凈。

項(xiàng)目名稱：半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)用EDI超純水設(shè)備
項(xiàng)目地點(diǎn)：寧東
項(xiàng)目性質(zhì)：超純水系統(tǒng)工程
工程周期：20天
工程狀態(tài)：已完結(jié)

制造芯片的原材料是提供多次才得到的高純度硅，將其切割成6寸、12寸、18寸等不同的晶圓，需要上百道步驟才可成為芯片，在此其中無論多少次的切割都需要用符合芯片制造清洗用水要求。

一般來說我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ·cm、15MΩ·cm、10MΩ·cm、2MΩ·cm、0.5MΩ·cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn)）。

根據(jù)原水水質(zhì)情況，通過現(xiàn)場(chǎng)勘查，工藝流程如下：

隨著近幾年政府對(duì)芯片產(chǎn)業(yè)發(fā)展的逐漸重視，以及受內(nèi)部和外部因素的影響，國(guó)內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)呈井噴式增長(zhǎng)，由于芯片生產(chǎn)工藝中對(duì)水質(zhì)要求極高，EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)更是高之又高。